Lò nung kim loại silicon là sử dụng lò hồ quang chìm để sản xuất kim loại silicon, và lò thường là loại bán kín.
Thạch anh silic và chất khử cacbon là nguyên liệu chính để nấu chảy kim loại silic.Hầu hết các lò nung kim loại Silicon đều ở dạng bán kín.Do chi phí điện năng của việc sản xuất kim loại silicon rất cao nên chi phí điện năng là yếu tố cần thiết cho quá trình nấu chảy kim loại silicon.Thạch anh silic có độ tinh khiết cao cần thiết cho sản xuất kim loại silicon và thành phần hóa học của nó như sau:
SiO2 | Fe2O3 | Al2O3 | CaO |
>99,00% | <0,057% | <0,14% | <0,03% |
Theo cách sử dụng kim loại silicon, nó được phân loại là độ tinh khiết luyện kim và hóa học với các chi tiết về từng độ tinh khiết như sau
Cấp
| Thành phần hóa học | ||||
Sĩ (%)
| Hàm lượng tạp chất (%) | ||||
Fe | Al | Ca | P | ||
1515 | >99,6% | .10,15 | / | .00,015 | .000,004% |
2202 | >99,5% | .20,2 | .20,2 | .00,02 | .000,004% |
2203 | >99,5% | .20,2 | .20,2 | 0,03 | .000,004% |
2503 | >99,5% | .20,2 | — | 0,03 | .000,004% |
3103 | >99,4% | .30,3 | .10,1 | 0,03 | .000,005% |
3303 | >99,3% | .30,3 | .30,3 | 0,03 | .000,005% |
411 | >99,2% | .40,4 | 0,04-0,08 | .10,1 | / |
421 | >99,2 % | .40,4 | 0,1-0,15 | .10,1 | / |
441 | >99,0 % | .40,4 | .40,4 | .10,1 | / |
553 | >98,5 % | .50,5 | .50,5 | .30,3 | / |